Influence of post‑deposition annealing on the chemical states of crystalline tantalum pentoxide films
We investigate the effect of post-deposition annealing (for temperatures from 848 K to 1273 K) on the chemical properties of crystalline Ta2O5 films grown on Si(100) substrates by radio frequency magnetron sputtering. The atomic arrangement, as determined by X-ray diffraction, is predominately hexag...
সংরক্ষণ করুন:
প্রধান লেখক: | Perez, Israel |
---|---|
অন্যান্য লেখক: | Sosa, Victor, Gamboa, Fidel, Elizalde Galindo, Jose Trinidad, Mani Gonzalez, Pierre Giovanni, Farias, Rurik, Enriquez Carrejo, Jose Luis |
বিন্যাস: | Artículo |
ভাষা: | en_US |
প্রকাশিত: |
2018
|
বিষয়গুলি: | |
অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://doi.org/10.1007/s00339-018-2198-9 https://doi.org/10.1007/s00339-018-2198-9 |
ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Influence of post‑deposition annealing on the chemical states of crystalline tantalum pentoxide films
অনুযায়ী: Perez, Israel
প্রকাশিত: (2018) -
Effect of ion bombardment on the chemical properties of crystalline tantalum pentoxide films
অনুযায়ী: Perez, Israel
প্রকাশিত: (2019) -
Airy pattern on narrow photoluminescence spectrum of band to band recombination in CdTe: Te thin films
অনুযায়ী: Becerril-Silva, M.
প্রকাশিত: (2018) -
Iron-Doped Lithium Tantalate Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering: A Study of the Iron Role in the Structure and the Derived Magnetic Properties
অনুযায়ী: Farias, Rurik
প্রকাশিত: (2020) -
In-situ X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the initial growth of CdS thin films by chemical bath deposition
অনুযায়ী: Garza-Hernández, R.
প্রকাশিত: (2019)