Influence of post‑deposition annealing on the chemical states of crystalline tantalum pentoxide films
We investigate the effect of post-deposition annealing (for temperatures from 848 K to 1273 K) on the chemical properties of crystalline Ta2O5 films grown on Si(100) substrates by radio frequency magnetron sputtering. The atomic arrangement, as determined by X-ray diffraction, is predominately hexag...
שמור ב:
מחבר ראשי: | Perez, Israel |
---|---|
מחברים אחרים: | Sosa, Victor, Gamboa, Fidel, Elizalde Galindo, Jose Trinidad, Mani Gonzalez, Pierre Giovanni, Farias, Rurik, Enriquez Carrejo, Jose Luis |
פורמט: | Artículo |
שפה: | en_US |
יצא לאור: |
2018
|
נושאים: | |
גישה מקוונת: | https://doi.org/10.1007/s00339-018-2198-9 https://doi.org/10.1007/s00339-018-2198-9 |
תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
פריטים דומים
-
Influence of post‑deposition annealing on the chemical states of crystalline tantalum pentoxide films
מאת: Perez, Israel
יצא לאור: (2018) -
Effect of ion bombardment on the chemical properties of crystalline tantalum pentoxide films
מאת: Perez, Israel
יצא לאור: (2019) -
Airy pattern on narrow photoluminescence spectrum of band to band recombination in CdTe: Te thin films
מאת: Becerril-Silva, M.
יצא לאור: (2018) -
Iron-Doped Lithium Tantalate Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering: A Study of the Iron Role in the Structure and the Derived Magnetic Properties
מאת: Farias, Rurik
יצא לאור: (2020) -
In-situ X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the initial growth of CdS thin films by chemical bath deposition
מאת: Garza-Hernández, R.
יצא לאור: (2019)