Effect of ion bombardment on the chemical properties of crystalline tantalum pentoxide films
The effect of argon ion bombardment on the chemical properties of crystalline Ta2O5 films grown on Si(100) substrates by radio frequency magnetron sputtering was investigated by X-ray photoelectron spectroscopy. All samples were irradiated for several time intervals [(0.5, 3, 6, 9) min] and the Ta...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , , , , |
| التنسيق: | Artículo |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2019
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.04.037 https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.04.037 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!